第1649章 7nm时代，我们来了！

早春的冷风吹散了车上讨论带来的灼热感。

栾文杰深吸一口气，强迫自己从“聚变示范堆”这个过于超前的震撼性目标中抽离出来。

眼前，是实实在在、触手可及的里程碑——华芯国际津门海河基地。

常浩南上次来访还是近两年前，那时ArF1800光刻机连八字还没一撇，整个海河基地都在研究多重曝光技术，以便用DUV光源造出高制程芯片。

但如今，那台承载着无数期望的“国之重器”，已经稳稳地安放在了生产线的心脏位置。

基地负责人黄炜和华芯国际技术总监吴明翰带着热情而克制的笑容迎了上来，身后是一众基地管理和技术骨干。

“栾主任，常院士，向总，一路辛苦了！欢迎莅临指导！”黄炜的声音洪亮有力，说话间往前迈出的几步近乎带着雀跃。

“总算等到这一天了，就盼着各位领导来见证。”吴明翰倒是表现的相对内敛，只不过在握手的时候晃动幅度和力度也比往常大了不少。

显然，他们的喜悦是发自内心的。

即便在寒暄时，嘴角的弧度也几乎压不下去。

简短的欢迎仪式后，一行人被引导进入更衣区。

繁琐的无尘服穿戴程序一丝不苟：脱下外套，换上连体洁净服，戴上头套、口罩、护目镜，套上鞋套。

接着是严格的风淋，强劲的气流吹走所有可能的微粒。

最后经过一道气闸门，正式踏入生产区核心地带——

恒定的温度，适宜的湿度，Class 100级别的无尘超净间。

柔和的顶光均匀洒下，照亮了排列整齐的自动化设备和纵横交错的物料传输线。

穿着同样白色无尘服的技术人员如同精密仪器的一部分，在各自的岗位上专注操作或监控数据，一切井然有序，只有轻微的蜂鸣和气流声。

几乎是刚一进门，众人的目光就不约而同地被吸引到生产区域中心位置。

那里摆放着一台体积明显更小的光刻设备。

稍微走近几步之后，就能看到银灰色的外壳上，“ArF1800”的标识清晰醒目。

此刻，一群技术人员正围拢在它的操作台和监控屏幕前，进行着流片前的最后确认。

头顶高处挂着一个标识牌：F-3产线。

“就是它了。”吴明翰的声音带着自豪引着众人走到一个安全的观察距离，“ArF1800，我们自己的深紫外光刻机。”

他指向设备，开始介绍，语速平稳却透着自信：“这台机器，光源、掩膜台、对准系统、控制系统，都充分继承了前代1500型和1200型的成熟设计理念和操作逻辑，并做了大量优化。尤其是光源的稳定性和对准精度，提升显著。”

他眼神中带着感激地看了一眼常浩南：“我们的工程师团队全程参与了上沪微电子的组装调试，对它的‘脾气’摸得很透所以这次产线升级和人员培训非常顺利，也比预期更快地克服了最后的一些技术问题。”

就在这时，一盒承载着希望的硅晶圆基底，通过自动物料传输系统（AMHS）的机械臂，平稳地运送到了F-3产线的起始工位。

常浩南还记得自己上次来到这里时的场景。

这些晶圆比他之前看到的要大上一圈。

“这是12英寸晶圆吧……”常浩南问道，“上次你们跟我提过的新硅片厂，已经投产了？”

“常院士好眼力！”

吴明翰赞道，脸上笑容更盛：

“ArF1800的高分辨率和高生产效率给我们省下了不少资源和精力，所以这次我们同步升级了F-3产线的晶圆处理系统，全面兼容12英寸晶圆。大尺寸晶圆能显著提升单次生产的芯片数量，降低成本，这也是国际主流的方向。”

众人的视线随着逐个铺展开来的晶圆在整条产线上不断转移着——

晶圆首先进入全自动清洗和前烘设备，去除表面污染物和水分。

接着是氧化炉，在晶圆表面生长一层薄而均匀的二氧化硅。

随后，晶圆被送入关键的匀胶机。

高速旋转中，粘稠的光刻胶被精准地涂覆在晶圆表面，形成一层厚度仅有微米级别的均匀薄膜，接着前烘氧化进一步去除溶剂，固化胶膜。

对于华芯国际而言，这些步骤都已经相当成熟。

但所有人仍然屏息凝神，生怕稍微粗重些的呼吸影响到某个细微参数，或是引得机魂不悦。

完成了所有前道准备的晶圆，终于被机械臂小心翼翼地送入ArF1800光刻机的内部。

几十颗心齐齐提了起来。

但也只能干着急。

光刻过程都是在设备内部完成，根本没办法直接目视观察。

众人只能听到低沉的嗡鸣声节奏发生变化，看到设备周围的伺服机构开始动作，高精度的掩模台和晶圆台在纳米尺度上高速而精准地协同运动，充满了科技特有的力量感。

“光刻的核心，简单理解，就像用极其精密的‘光’笔，把设计好的电路图‘画’到涂了感光胶的晶圆上。”

或许是为了缓解紧张气氛，吴明翰转过身来，用最通俗的类比介绍整个光刻过程：

“掩模版就是那个高精度的‘底片’，上面刻着放大了的电路图形，光源发出的深紫外光经过物镜组汇聚穿过掩模版，再经过一系列复杂的光学透镜系统缩小聚焦，最终将微缩几十倍甚至上百倍的电路图案，精准‘曝光’在晶圆的光刻胶层上……”

“……”

他顿了顿，语气中带着庆幸和自信：

“得益于ArF1800本身极高的分辨率和套刻精度，我们在生产当前这一代7纳米制程节点的产品时，不需要再依赖相移掩模或者多重曝光这类极端技术，所以我们对这次流片的良品率非常有信心。”

随着吴明翰的话音，ArF1800内部，肉眼不可见的精密过程正在发生：

激光脉冲精准激发，掩模台在纳米级精度下移动、对准，复杂的光学系统将掩模版上的图形以极高的分辨率投影到晶圆的光刻胶层上。

监控屏幕上，代表曝光进程的进度条平稳推进。

曝光完成的晶圆被送出，进入后烘步骤，使曝光区域的化学反应更加彻底，图形更加稳定。

接着是显影环节，特定的化学溶液被喷洒到晶圆表面，溶解掉未被光源照射到区域的光刻胶，从而将掩模板上的电路图形“显影”出来，清晰地呈现在晶圆表面。

定影流程则进一步强化剩余光刻胶图形的稳定性，使其能承受后续的蚀刻冲击。

随后，晶圆浸入特制的化学刻蚀液中，没有光刻胶保护的区域被选择性去除掉。

最终，刻蚀完成后，完成使命的光刻胶层被彻底去除干净……

……

当最后一道沉积工序完成，第一批经过完整前端工序处理的晶圆被送出工作腔，也把气氛推到了顶点

吴明翰示意工作人员将其中一片晶圆置于一个带有特殊角度照明的观察台上，隔着洁净的保护罩展示给众人。

在特定角度的光线照射下，光滑如镜的硅晶圆表面，清晰地呈现出无数细密到肉眼几乎无法分辨细节、但排列极其规整有序的几何图形——那是晶体管栅极、源漏区、隔离槽等基础器件的轮廓。

它们层层叠叠，构成了芯片最基础的“地基”。

实际上，吴明翰早已经准备好了用在这时候的解说词。

既专业又煽情。

然而看着眼前的一幕，却是他自己首先抑制不住积压已久的情绪，弯腰贴在保护罩表面，如同欣赏自己的孩子一般，如痴如醉地紧盯着那块晶圆。

甚至连吐出的话语中都带上了几分哭腔：

“各位……”

只说了两个字，就哽咽无声。

栾文杰搞航天出身，常浩南搞航空出身，也都能理解他此时此刻的心情。

因此，没有人催促。

只是任由对方在面罩下调整着心态。

过了好一会，吴明翰才重新开口道：

“各位领导，虽然这些图形还需要经过后续的金属互连，用金属导线将它们按设计要求连接起来，通入电脉冲信号，才能真正成为一颗有功能的芯片。但是——”

他深吸一口气，目光扫过常浩南、栾文杰、向华平，以及周围屏息凝神的技术团队，一字一句，铿锵有力：

“到了这一步，晶圆制造过程中最复杂、最核心、决定了芯片最小特征尺寸的光刻步骤都已经完成……我们……已经圆满完成了ArF1800光刻机的首次生产测试任务！”

“7nm时代，我们华夏人，来了！”